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1.靶（上部電極）：材料：金，直徑：50mm，厚度：0.1mm　純度：99.999%

2、真空樣品室：直徑：160mm，高：110mm

3.樣品臺(tái)（下部電極）：濺射面積：直徑：50mm

4．工作真空： 2×10^-1—10^-1mbar

5.離子電流表：0-50mA

6.計(jì)時(shí)器：根據(jù)濺射習(xí)慣設(shè)定單次濺射時(shí)間。

7.濺射電壓：-1600DVC

8.飛越真空泵（VRD-4）：1.1L/S

9.工作室工作媒介氣體：空氣或氬氣等多種氣體

10．針閥： 配有進(jìn)氣口，微量充氣調(diào)節(jié)，可連接φ4*2.5mm軟管。

產(chǎn)品名稱：自動(dòng)磁控等離子濺謝儀

產(chǎn)品類別：機(jī)械設(shè)備/其他行業(yè)專用設(shè)備/等離子噴涂設(shè)備

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